目前,生产双面或多层PCB的工艺中,一般是采用:打孔——化学沉铜——全板加厚电镀铜——图形转移——线路电镀铜——碱性蚀刻——生产工艺。 全板加厚电镀铜的目的是增加化学沉铜层的强度。由于在电镀铜过程中,电流密度分布的不均匀,会导致整板的铜表面厚度的不均匀。电流密度高的部分,铜的厚度 大;电流密度低的部分,铜的厚度小。这样在碱性时刻过程中,如果达到完全蚀刻,就会在铜厚度小的部分出现过蚀现象。
一次电镀铜生产PCB工艺是:打孔——化学沉铜——图形转移——线路电镀铜——碱性蚀刻……。这种工艺由于没有了全板加厚电镀铜工艺,避免了前面提到的局部过蚀现象的出现。同时,由于被腐蚀的铜层厚度小于二次镀铜工艺的,这样整板的过蚀现象也可以更好的控制。
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